光刻機(jī)霸主ASML(阿斯麥)已經(jīng)開始出貨新品Twinscan NXT:2000i DUV(NXT:2000i雙工件臺(tái)深紫外光刻機(jī)),可用于7nm和5nm節(jié)點(diǎn)。NXT:2000i將是NXE:3400B EUV光刻機(jī)的有效補(bǔ)充,畢竟臺(tái)積電/GF的第一代7nm都是基于DUV工藝。
同時(shí),NXT:2000i也成為了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的產(chǎn)品,達(dá)到了和3400B一樣的1.9nm(5nm要求執(zhí)照2.4nm,7nm要求至少3.5nm)。
本文由上海藝覺網(wǎng)絡(luò)科技有限公司(http://thetananrena.com)原創(chuàng)編輯轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明